我們可同時支援以 PDK（Process Design Kit）實現高再現性的設計，以及依客戶規格進行的客製化設計。除了材料與結構的彈性選擇，也提供從設計、試作到量產的一站式支援，全面協助超穎透鏡從研發到實用化。
我們提供已事先驗證光學特性的 PDK（Process Design Kit），可立即運用製程規格、透鏡模型與設計規則。除了標準 PDK，也可依客戶需求彈性支援客製化設計，從規格檢討到製造皆可一貫支援。
從超穎透鏡設計所需的光學解析到透鏡設計，皆可一貫支援。
從研發用途到量產，皆可依目的支援合適的晶圓尺寸。
從單片試作到量產，可依開發階段彈性支援。支援每月 1 至 100 片規模的製造，從量產導入到穩定供應皆可一貫支援。
| 項目 | 規格與支援範圍 |
|---|---|
| 成型方式 | 使用 NIL 遮罩進行無機材料乾蝕刻 / 直接成型於高折射率樹脂 |
| 支援材料 | PDK 基礎 非晶矽（n=3.78） 客製支援：SiN 等無機材料、高折射率樹脂（n≥1.8） |
| 支援基板 | 無鹼玻璃晶圓、石英晶圓 4 吋至 8 吋 |
| 設計 | PDK 基礎 節距：385 nm / 450 nm；meta-atom 直徑：100 nm 至 300 nm；深寬比：最高 7 |
| 工作波長 | PDK 基礎 940 nm |
| 試作與量產代工 | 每月 1 至 100 片 |
以 NIL 圖案作為遮罩蝕刻 Si 基板。案例條件為節距 450 nm、meta-atom 高度 700 nm、12 相位階、工作波長 940 nm。
我們會依照規格與生產規模提出合適方案。歡迎隨時與我們聯絡。
