ナノスケールの微細パターンを、モールド（型）を介して樹脂や薄膜基板に直接転写する加工技術。光学リソグラフィーと異なり、波長による解像度制約を受けず、数十 nm 以下の構造形成が可能。形状再現性に優れ、フォトリソに比べ低コストの量産技術。

ナノインプリントリソグラフィー（NIL）技術を用いて、大口径ウェハやマザーガラス基板などの大型基板全体に均一にパターンを転写する技術。一括処理するもの、Roll to Roll や Roll to Plate などの装置がある。

ナノインプリントリソグラフィー（NIL）において、パターン転写の原版となる金型。電子線リソグラフィー（EBL）・フォトリソグラフィーとドライエッチングで Si や石英に形成するものが一般的。パターンサイズにより切削・Ni 電鋳などもある。ステップ＆リピート法で作成した樹脂製のものを「樹脂マスターモールド」と呼ぶ場合もある。

ナノインプリントプロセスで樹脂微細パターンを形成する下地のこと。ガラス、Si、化合物半導体、樹脂フィルムなど多様な材料が使用される。

マスターモールドを原版として専用のレプリカ樹脂により複製される樹脂モールド。マスターの直接使用による摩耗・破損を避けるため、インプリント基板の成型に使用する。パターンや要求特性により、数十回程度の繰り返し使用での交換が一般的。

UV インプリントの場合、UV 光（通常 i 線）で硬化する特性を持ったインプリント用途専用の樹脂溶液。熱インプリントの場合は、熱可塑性あるいは熱硬化性の樹脂が使用され、溶液状・シート状のものがある。

マスターモールドからレプリカモールドを作成する際、離型時にマスターモールド表面への樹脂付着を防ぎ剥離性を向上する目的で事前に行う処理。レプリカモールド表面に行う場合もある。

インプリント基板のプライマー処理前に行われることがある、VUV 光によるドライクリーニング・表面活性化処理のこと。

基材と成型用樹脂の密着を促進する薬液。UV インプリントをガラス基板等に処理する場合、基板表面にあらかじめシランカップリング剤などを塗布して表面処理を実施する。

インプリントプロセスにおいて、成型基板上のパターン以外の部分に残る薄い樹脂膜のこと。

インプリントプロセスにより形成され、エッチングマスクとして機能し最終的には取り除かれるが、一時的に形成される膜のこと。

インプリントプロセスにより形成され、デバイスの最終構造として残る膜のこと。

インプリント樹脂硬化後に、レプリカモールドを樹脂表面から剥がすこと。

微細パターン形状の側壁において、基底部（基板側）からパターン頂点に向かう傾斜角度。インプリント工程では、若干テーパー角がついている（パターン頂点が細くなる）方が離型が容易になり、逆テーパーでは離型が難しくなる。

一般的には Design of Experiment（実験計画法）の略として用いられることが多いが、NIL 分野では Diffractive Optical Element（回折型光学素子）を指す。微細な高さ構造（階段状等）の構成により、入射光の位相・振幅・強度分布を任意に制御可能。複雑な光線分布を生成できる一方、入射光の一部が回折されずに通過する 0 次光が強い光点として生じることもある。

【参考】⇒ 0 次光が発生しない当社の拡散光学素子（Diffuser）：Platanus