Dyad® 200
SCIVAXが開発した多様なインプリント機構を1台に集約し、半導体製造装置メーカーのタツモ株式会社と共同設計・開発した量産用UVインプリント装置。Rigid基板をレプリカスタンプ基材に採用したHard-to-Hardインプリント方式により、高精度・高歩留まりの量産を実現します。
ARグラス用ウェーブガイド
均一性向上
Flex基材レプリカに比べ、ウェハ面内のインプリント歪が大幅に低減。ARグラスのウェーブガイド成型で均一性と画質の改善を実証。
オーバーレイアライメント
≤±1μm
量産レベルでオプションのアライメント機構により±1μm以下を達成。精密なパターン位置合わせが要求されるデバイス製造に対応。
高アスペクト比構造
離型性向上
ピラー・ホール形状など高アスペクト比構造の離型時に発生するレプリカ破損を緩和。歩留まりと生産性を同時に改善。
ロードポート内訳:インプリント基板用×2 / マスターモールド用×1 / レプリカモールド用×1
| 項目 | Dyad® 200 |
|---|---|
| 成型方式 | UV ナノインプリント(UV-LED λ=365nm) |
| ウエハ搬送 | FOUP to FOUP |
| ワークサイズ | Φ200mm(0.3mm ≤ t ≤ 1mm) |
| モールドサイズ | Φ200mm(0.3mm ≤ t ≤ 1mm)/ Φ300mm(0.7mm) |
| 加圧力 | ≤ 0.90MPa |
| 真空度 | ≤ 50Pa |
| 離型機構 | 垂直離型 |
| アライメント精度 | ≤ ±1μm(オプション) |
| スループット | 20枚/時間(プロセスに依存) |
| 外形寸法 | W5,460 × D2,560 × H2,500(mm) |
※ Φ300mm ウエハ対応モデル Dyad® 300 については別途お問い合わせください。
RubiQ® RD-100 / RD-200
企業のR&D部門・大学・研究機関からのナノインプリント装置導入ニーズに応えるため、SCIVAXが開発した次世代コンセプト装置です。装置メーカーとしての強みと受託実績で培ったプロセスノウハウを凝縮し、硬化方式・加圧方式をモジュール単位で組み合わせることで、様々なプロセス要望に対応します。研究段階からパイロット生産まで、顧客の開発フェーズに合わせた提案が可能です。
拡張性の高いシステム設計
RD-100
硬化方式(UV / 熱 / UV+熱アシスト)と加圧方式(平行平板 / FLAN空気加圧)を自由に組み合わせ可能です。導入後もオンサイトでのオプション追加・変更が可能(RD-100)です。
量産を前提とした8インチ基板対応
RD-200
パイロット生産から量産に対応可能な8インチ基板に対応するRD-200は、FLAN空圧加圧方式と高出力UV-LEDを標準装備します。高タクトが要求される生産フェーズには、自動処理機能も搭載可能です。
受託案件のプロセスノウハウを装置に凝縮
ファウンドリ事業で積み上げた多様なマテリアル・パターンへの対応実績を装置設計に反映しました。
| 項目 | RubiQ® RD-100 | RubiQ® RD-200 |
|---|---|---|
| 硬化方式 | UV / 熱 / UV+熱アシスト | UV / UV+熱アシスト |
| 加圧方式 | 平行平板 / FLAN(空気加圧・特許) | FLAN(空気加圧・特許) |
| 最大ワークサイズ | Φ100mm | Φ200mm |
| 最大加圧力 | 0.7MPa | 0.7MPa |
| 加熱温度 | 最高200℃ 熱可塑・熱硬化樹脂対応 | 最高100℃ 熱可塑樹脂向け |
| UV仕様 | 波長365nm / 照度200mW/cm² | 波長365nm / 照度400mW/cm² |
| 真空貼り合わせ | 対応 | 対応 |
| 外形寸法 | W540 × D790 × H1,790(mm) | W700 × D980 × H2,100(mm) |
| 重量 | 300kg | 700kg |
※ RD-200の自動処理・高強度UV-LED・精密真空制御はスタンダード装備。RD-100はオプションで後付け対応可能。
※ 上記オプションはいずれも導入後のオンサイト後付けに対応しています。
Dyad® 200(量産用)および RubiQ®(R&D用)の装置概要をご覧いただけます。