バイオデバイス | ファウンドリサービス | SCIVAX
Foundry Application

バイオデバイス

NGS・マイクロ流路・OOCなど最先端バイオデバイスの量産に対応。生体毒性や自家蛍光といったバイオ固有の課題を熟知した専門スタッフが、ナノテクノロジーとバイオの橋渡しを行います。

バイオデバイス
画像を配置
SCIVAXが選ばれる理由
01

豊富な量産実績

NGS関連製品の量産経験を活かし、試作段階から量産を見越した材料・プロセスを提案します。

02

UV成型・熱成型の両対応

UVナノインプリントのみならず熱成型も含めた多様なプロセスと成型材料をご用意しております。用途に応じた最適な製法を選択できます。

03

一貫したサプライチェーン

金型デザイン・金型作成・試作成型・基板調達・個片化まで、サプライチェーンを構築済みです。

04

ISO Class 5クリーン環境での成型

Class100(ISO Class 5)クリーンルームでの一連の成型プロセス後、後工程工場で個片化・ID刻印・品質検査を実施して出荷します。

05

バイオ専門スタッフによるサポート

バイオ分野の専門スタッフがバイオとナノテクの橋渡しを担当します。生体毒性・自家蛍光などバイオ固有の課題にも対応し、開発期間を大幅に短縮します。

06

世界初PMFの開発・量産対応

ナノインプリントを用いた貫通孔フィルム「PMF(Porous Membrane Film)」を世界で初めて開発しました。OOC(Organ-on-chip)など幅広いバイオ用途に対応します。

世界初

PMF(Porous Membrane Film)— ナノインプリントによる貫通孔フィルム

ナノインプリントを用いた貫通孔フィルム「PMF(Porous Membrane Film)」を世界で初めて開発しました。OOC(Organ-on-chip)など幅広いバイオ用途に対応します。

対応仕様
項目仕様・対応範囲
対応デバイスNGSチップ(フローセル)、OOC、PMF(貫通孔フィルム)
成型プロセスUVナノインプリント / 熱成型
クリーンルームISO Class 5(Class 100)
後工程個片化、ID刻印、品質検査
材料対応生体毒性・自家蛍光に配慮した材料を選定
対応範囲金型設計〜試作〜量産まで一貫対応
プロセス一例
ガラス基板
Step 1
ガラス基板
疎水化表面処理
Step 2
疎水化表面処理
e.g. HMDS
ナノインプリント樹脂塗布
Step 3
ナノインプリント樹脂塗布
ナノインプリント
Step 4
ナノインプリント
アッシング・残膜/HMDS除去
Step 5
アッシングにより残膜・HMDS除去
親水化処理
Step 6
親水化処理
e.g. γAPTES
ナノインプリント樹脂のリフトオフ処理
Step 7
ナノインプリント樹脂のリフトオフ処理
金ナノ粒子付着・親水性確認
Step 8
金ナノ粒子の付着によりホール部分の親水性を確認

※ 上記はプロセスの一例です。デバイス仕様に応じて最適なプロセスをご提案します。

成型事例
NGSチップ ウェル構造

NGSチップ ウェル構造(Patterned flow cell)

次世代シーケンサー(NGS)向けDNAシーケンサーチップのウェル構造。

PMF 貫通孔フィルム

PMF(Porous Membrane Film)

世界初のナノインプリント貫通孔フィルムです。OOCなど幅広いバイオ用途に対応します。


バイオデバイス向けファウンドリのご相談

仕様・生産規模に応じたご提案をいたします。まずはお気軽にお問い合わせください。

お問い合わせ